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碳化硅制备
第三代半导体材料
碳化硅
发展历程及
制备
技术
答:
制备技术:1. 气相沉积(CVD)法:气相沉积法是制备碳化硅的一种常见技术
,通过高温下使气相中的材料在衬底上以单层或者多层的方式沉积成薄膜。2. 物理气相沉积(PVD)法:物理气相沉积法通过物理方法(例如蒸发、溅射等)将物质从固态源转化为气态,然后在衬底上沉积生成薄膜或者多层膜。3. 束外泻晶生...
碳化硅
怎么生产的?
答:
碳化硅因其很大的硬度而成为一种重要的磨料,但其应用范围却超过一般的磨料。
制备碳化硅制品首先要制备碳化硅冶炼块
。在工业生产中,碳化硅冶炼块通常以石英、石油焦等为原料,辅助回收料、乏料,经过粉磨等工序调配成为配比合理与粒度合适的炉料经高温制备而成。高温制备碳化硅冶炼块的热工设备是专用的碳化硅...
碳化硅
生产工艺流程
答:
碳化硅
生产工艺流程简述如下:⑴、原料破碎 采用锤式破碎机对石油焦进行破碎,破碎到工艺要求的粒径。⑵、配料与混料 配料与混料是按照规定配方进行称量和混匀的过程。本项目配料采用平台,混料采用混凝土搅拌机,按照工艺要求对石油焦和石英砂进行配料、混料作业。⑶、电炉准备 电炉准备是把上次用过的炉重新...
SiC 材料的
制备
过程中存在哪些难点和挑战?
答:
TaC涂层的化学相容性和力学相容性使其在航空航天、晶体生长、能源电子和医疗器械等领域大放异彩,尤其在MOCVD设备生长GaN或AlN单晶以及PVT设备生长SiC单晶时,能显著提升工艺精度,优化温度控制,从而
制备
出更高质量的
碳化硅
晶圆。然而,这一过程并非易事,涉及到的关键技术之一就是YMUS超声波喷涂法。YMUS超...
绿
碳化硅
的制作工艺?
答:
绿
碳化硅
(SiC)是一种重要的无机材料,具有许多优良的特性,例如高熔点、高硬度、高导热性和耐腐蚀性。它通常通过碳源和二氧化硅(SiO2)进行反应来
制备
。以下是绿碳化硅的常见制作工艺:碳源筛选:通常使用木炭、石墨或石墨粉末作为碳源。这些原料需要经过精细加工和筛选,确保其纯度和颗粒大小符合要求。混合...
碳化硅
烧结工艺技术
答:
这些烧结技术各有特点,可以满足不同应用场景下碳化硅陶瓷的性能需求。例如,反应烧结主要用于
制备碳化硅
陶瓷的复合材料;常压烧结适用于生产高密度、高强度的碳化硅陶瓷;热压烧结则可以制备出高硬度、高耐磨性的碳化硅陶瓷;而热等静压烧结技术则可以用于制备具有良好高温性能和耐腐蚀性的碳化硅陶瓷。
碳化硅
纤维的
制备
答:
碳化硅
长丝的制造过程是将聚硅烷在400℃以上,发生热转位反应,使侧链上的甲基以亚甲基的形式,导入主链的硅-硅间,形成聚碳硅烷,然后通过干法纺丝或熔体纺丝制成纤维。为防止纤维在碳化过程中发生熔融粘接,须先在较低温度下作不熔化处理。不熔化纤维在真空或惰性气体中加热至1200~1500℃,侧链的甲基与...
半导体
碳化硅
(SIC)晶片磨抛工艺方案的详解;
答:
揭秘半导体
碳化硅
(SIC)晶片磨抛工艺的精密艺术 在半导体行业的制造链中,碳化硅晶圆衬底的
制备
成本中,切割磨抛工序占了至关重要的40%。这一工艺犹如精密乐器的调音,它将硅晶圆切割成薄如蝉翼的片状,随后通过精细的研磨和抛光,赋予晶片所需的平滑度和镜面光泽。研磨与抛光的超级引擎 在这个过程中,研磨...
碳化硅
是什么材料
答:
碳化硅
还具有较高的硬度、耐磨性和化学稳定性,这使得它在半导体器件制造中具有重要的应用。碳化硅器件制造的主要困难之一是碳化硅衬底的
制备
和质量控制。当前,碳化硅器件制造主要采用外延生长技术,即在高质量的碳化硅衬底上生长一层薄的碳化硅外延层。碳化硅用途:1、在电气工业中,碳化硅可用做避雷器阀体、硅...
碳化硅
的性能及用途是什么?
答:
制备
:七彩
碳化硅
,彩虹般的光泽则是其表面产生的二氧化硅钝化层所致。由于自然界中的莫桑石非常罕有,所以碳化硅多为人造。制造碳化硅最常见的方法是将细的二氧化硅颗粒与焦炭混合,并置入石墨电阻炉中,加热到1600至2500°C之间便可制得碳化硅。另一种方法是将纯净的二氧化硅颗粒放置在植物性材料(比如谷壳...
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