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cu和fecl3反应后废液处理
在
FeCl3溶液
蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,
废液处理
和资源回收的过程简述...
答:
(1)
FeCl3
蚀刻铜箔
反应
是三价铁离子具有氧化性和铜反应生成亚铁离子和铜离子,反应的离子方程式为:2Fe3++
Cu
=2Fe2++Cu2+,故答案为:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+;(2)向
废液
中投入过量铁屑,铁会和三氯化铁溶液反应生成氯化亚铁,和氯化铜反应生成铜和氯化亚铁,所以加入铁粉是为了得到铜,过滤得到固体...
在
FeCl3
中溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,
废液处理
和资源回收的过程简...
答:
答案:⑴2Fe3++
Cu
=2Fe2++Cu2+ 取少量
反应后
的溶液置于洁净的试管中,向其中滴加KSCN溶液,若产生红色溶液,证明仍存在Fe3+ (合理即得分)⑵回收铜加盐酸反应后过滤 ⑶FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2 4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3 (每空2分)解析:试题分析:(1)对离子方程式...
在
FeCl3溶液
蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,
废液
(主要含有FeCl2和CuCl2...
答:
属于化合
反应
;铁和氯化铜反应能生成铜和氯化亚铁,属于置换反应,反应的化学方程式为:Fe+CuCl2=
Cu
+FeCl2.故填:Fe+CuCl2=Cu+FeCl2.(2)步骤②得到滤渣的成分是反应生成的铜和剩余的铁,
怎样
处理氯化铁
,氯化亚铁,氯化铜
废液
?
答:
Fe+CuCL2=FeCl2+
Cu
回收铜 Fe+2
FeCL3
=3FeCl2 然后用足量NaOH
反应
得到沉淀 FeCl2+2NaOH=Fe(OH)2(s)+2NaCl 4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3(s)
怎样从用
FeCl3
腐蚀过的印刷电路板的
废液
中回收
Cu
并制取纯净的FeCl3?
答:
1. 加入过量Fe粉【置换出Cu】2. 加入盐酸至生成的金属粉末不再溶解【将剩余的铁和生成的Cu分离】3.
过滤,将滤液蒸干并灼烧【利用Fe2+水解并被空气氧化】4. 加适量盐酸将灼烧出的Fe2O3溶解【得产物】
(2012•海南)在
FeCl3溶液
蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,
废液处理
和资源...
答:
3中生成氢氧化铁的
反应
不是溶液中离子的反应,是氢氧化亚铁固体被氧化的结果,因此氢氧化铁不用标沉淀符号。望采纳。
电子工业中常用
FeCl3溶液
腐蚀覆铜板来制作印刷电路板,并回收
Cu和
综合利...
答:
(1)
废液
中铜石以
Cu
2+形式存在的,要回收Cu应当选合适的还原剂还原,根据题意,应选铁粉,故答案为:铁粉;(2)过程①是
FeCl3溶液与
铜
反应
,反应离子方程式为:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,故答案为;2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+;(3)过程③是把滤液中的Fe2+再氧化为Fe3+;故需要加入氯气,反应离子...
fecl3
腐蚀
cu
电路板
后废液
组成部分有没有三价铁离子
答:
fecl3
腐蚀
cu
电路板
后废液
组成部分没有三价铁离子。不是三氧化铁,是三氯化铁。原理:2
FeCl3
+
Cu
== CuCl2 + 2FeCl2 溶液中有Cl-、Fe2+、Cu2+,以及没有完全
反应
的Fe3+,当然还包括H+、OH-
在
FeCl3溶液
蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,
废液处理
和资源回收的过程简述...
答:
4Fe(OH)2+O2+2H2O=4 Fe(OH)3;C(Fe3+)=Kspc3(OH?)=4.0×10-11;(3)
FeCl3的
水溶液中铁离子水解显酸性,
反应
的离子方程式为:Fe3++3H2O?Fe(OH)3+3H+,氯化铁溶液得到氯化铁晶体,需要防止铁离子水解,应在稀盐酸或氯化氢气流中加热蒸发浓缩结晶过滤得到晶体;故答案为:酸;...
三氯化铁
废液
怎么
处理
?
答:
产生污泥量少,大大节省污泥处理费用;适应水体pH值范围广,为4~12,最佳pH值范围6~10。怎样
处理氯化铁
,氯化亚铁,氯化铜
废液
?加入过量铁屑 Fe+CuCL2=FeCl2+
Cu
回收铜 Fe+2
FeCL3
=3FeCl2 然后用足量NaOH
反应
得到沉淀 FeCl2+2NaOH=Fe(OH)2(s)+2NaCl 4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3(s)
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