第1个回答 2024-03-14
PVD真空镀膜是一种采用物理气相沉积技术进行薄膜制备的方法。其原理是通过将金属、合金或化合物等材料加热至高温，并使用直流偏压电源，或脉冲偏压电源，通过阴极加负高压,金属或非金属电子在电场的作用下定向加速发射，发射电子轰击气体分子，使之电离将金属离化并与气体反应通过，然后在真空环境中使其沉积在基底表面形成薄膜。在沉积过程中，物质会经过表面的扩散、迁移和反应等过程，形成致密的薄膜结构。PVD真空镀膜具有高纯度、均匀性好、薄膜厚度可控等优点，常应用于耐磨、提高表面硬度、润滑、光学、电子、导电、防腐等领域。想要做真空镀膜可以关注下云浩纳米，他们有专门的科研研究院技术支持.
第2个回答 2024-05-15
常用的PVD镀膜有三种:真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀
1、真空蒸镀:是在适当的压强下用电子束等热源加热材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层;
2、溅射镀膜:是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法，施镀时，将工作室抽成真空,冲入氩气做为工作气体，并保持其压力为0.13至1.33帕;
3、离子镀:是在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。