第1个回答 推荐于2017-09-20
是的,常温下,硅单晶在纯HF中的腐蚀速度很小,但在纯HF中加一滴HNO3,腐蚀速度会大大增加。我做硅料酸洗的,我们的酸就是HNO3和HF的混合酸。在这个过程中,参与反应的不是硅本身,而是硅表面的金属杂质。涉及到电化学腐蚀的知识。通常用的非择优腐蚀剂的配方为:HF(40-42%):HNO3(65%)=1:2.5它们的化学反应过程为:Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2+4H2O本回答被提问者采纳
第2个回答 2009-03-01
氢氟酸与硅反应生成产物是氟化硅,反应条件是高温
氟化氢是弱酸,部分电离,而硅又不与其他酸反应,所以硅不可能是与氢离子反应。四氟化硅是气体,挥发了。
Si + 4HF = SiF4(g) + 2H2(g)
另外二氧化硅能跟其反应,同样是四氟化硅是气体。
SiO2 + 4HF = SiF4(g) + 2H2O
第3个回答 2009-03-01
在常温下,硅和氢氟酸不反应。只有在加热的条件下,才能反应。
第4个回答 2019-07-17
该反应的吉布斯自由能在常温时是负的,无法反应,加热与有氧化剂存在的的条件下才能反应,详见无机化学第四版519页。