ITO膜在LED中的作用是增加了光透过率：
ITO的微观结构。在SnO2中加入Sn后，Sn元素可以在铟镓晶格中取代，以SnO2的形式存在。由于In2O3中的in元素是三价的，当形成SnO2时，电子将贡献给导带。
同时，在一定的缺氧条件下产生氧空穴，形成载流子浓度为1020～1021CM-3，迁移率为10~30cm／vs.该机制提供了10-4Ω量级的低膜电阻率。
所以ITO薄膜具有半导体的导电性。Ito是一种宽能带薄膜，其禁带宽度为3.5-4.3ev。激发吸收阈值为3.75ev，相当于330nm波长。
因此，ITO薄膜的透射率很低。同时，由于载流子等离子体振动在近红外区域的反射，ITO薄膜在近红外区域的透光率也很低。
但ITO薄膜在可见光区域的透射率很好。由于材料本身特殊的物理和化学性质，ITO薄膜具有良好的导电性和可见光透过率。
扩展资料：
在国内，ITO薄膜设备的制造和发展是20世纪80年代开始的，主要是一些单体式的真空镀膜设备，由于ITO工艺和制成方法的限制，因此产品品质较差、产量较小，当时的产品主要用作普通的透明电极和太阳能电池等方面。
20世纪90年代初，随着LCD器件的飞速发展，对ITO薄膜产品的需求量也是急剧的增加，国内部分厂家纷纷开始从国外引进一系列整厂ITO镀膜生产线。
但由于进口设备的价格昂贵，技术服务不方便等因素，使许多厂商还是望而却步。80年代末，中国诞生了第一条TN-LCD用ITO连续镀膜生产线。
该生产线采用的工艺路线是将铟锡合金材料利用直流磁控溅射的原理沉积到基片的表面，并进行高温氧化处理，将铟锡合金薄膜转换成所需的ITO薄膜。
这种生产线的特点是设备的产能较低，质量较差，工艺调节复杂。90年代中期，随着国内LCD产业的发展，对ITO产品的需求量增大的同时，对产品的质量有了新的要求。
因此出现了第二代ITO镀膜生产线。该生产线不仅产量比第一代生产线有了大幅度的提升，同时由于直接采用ITO陶瓷靶材沉积ITO薄膜。
并兼容了射频磁控溅射沉积SiO2薄膜的工艺，使该生产线无论从产品的质量上、还是工艺可控性等方面与第一代生产线相比均有了质的飞跃。
参考资料来源：百度百科—ITO薄膜
【ITO薄膜】是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。本回答被网友采纳
1. 通常在LED芯片中加镀ITO镀层，使注入LED芯片的电流能够快速并且均匀的扩散，增加电子活跃性能，以达到提升LED光转换效率的目的。
2. 为了提高LED芯片的出光效率，GaN基白光LED中如果用ITO替代Ni/Au作为P型电极芯片的亮度要比采用通用电极的芯片高20％－30％。
1. **电导性**：ITO膜是一种具有高电导性的材料。在LED中，ITO膜通常被用作电极的一部分，为发光结构提供电流。这种高导电性确保电流能够有效地传递到发光层，从而实现高效的发光。
2. **光学透明性**：ITO膜同时是一种光学透明的材料，尤其在可见光和近红外光的波段。这意味着，当LED发光时，光可以顺利通过ITO膜，而不会被吸收或散射。这对于提高LED的光出射效率非常关键。
3. **防止外部环境影响**：ITO膜还可以作为一种保护层，保护LED的发光层不受到外部环境的影响，例如氧化、湿气等，从而保持LED的长期稳定性。
4. **改善发光效率**：ITO膜还有助于改善发光效率。在有些设计中，ITO膜可以与发光层形成一个微腔结构，通过控制微腔的厚度，可以增加发光层的光子模态密度，从而提高LED的发光效率。