电子元件生产工艺流程图

如题所述

一、IC生产工艺流程图
IC生产工艺流程图涵盖六个主要部分:单晶硅片制造、IC设计、光罩制作、IC制造、IC测试和封装。
1. 单晶硅片制造
单晶硅片是IC制造的基础,其制造流程包括拉晶、切割、研磨、抛光和清洗。
2. IC设计
IC设计阶段涉及电路设计,并将设计转化为版图。
3. 光罩制作
光罩制作是将IC设计版图转移到玻璃板上,以便在硅片上复制电路图案。
4. IC制造
IC制造在晶圆代工厂进行,主要包括蚀刻、氧化、扩散/离子植入、化学气相沉积薄膜和金属溅镀等步骤。
5. IC测试
在产品交付客户前,IC需经过功能测试以确保质量,测试可在封装前或封装后进行。
6. IC封装
封装流程包括晶圆切割、固晶、打线、塑封、切筋和成形、打码、终测、分选和编带,以确保IC的稳定性和保护。
二、贴片电阻生产工艺流程图
贴片电阻生产涉及涂布、贴装和焊接三个基本步骤。
1. 涂布
涂布是通过印刷机或点膏机将焊膏或固化胶涂布到PCB板上。
2. 贴装
贴装使用贴片机将电阻等器件准确地贴装到PCB板上。
3. 回流焊
回流焊通过回流炉加热PCB板,使焊膏熔化,实现器件与PCB板的焊接。
三、电容生产工艺流程图
电容生产工艺包括以下步骤:
1. 原材料
陶瓷粉的配料是关键,决定了MLCC的性能。
2. 球磨
通过球磨机将瓷粉配料颗粒研磨至微米级。
3. 配料
各种配料按比例混合。
4. 和浆
加入添加剂,将混合材料调成糊状。
5. 流延
将糊状浆体均匀涂布在特种薄膜上。
6. 印刷电极
将电极材料按规则印刷到涂布后的浆体上。
7. 叠层
根据容值需求,将带电极的浆体块叠层,形成电容坯体。
8. 层压
通过层压使多层坯体紧密结合。
9. 切割
将坯体切割成单个电容体。
10. 排胶
通过高温排胶去除粘合剂。
11. 焙烧
高温烧结陶瓷粉,形成陶瓷颗粒。
12. 倒角
磨掉陶瓷颗粒的棱角,露出电极。
13. 封端
用铜或银材料封端,形成铜(或银)电极。
14. 烧端
高温烧结电极,形成陶瓷电容初体。
15. 镀镍
在电极上镀上一层镍层,防止电极材料与锡层相互渗透。
16. 镀锡
在镍层上镀锡,形成可焊接的陶瓷电容成体。
17. 测试
测试电容的耐电压、电容量、损耗因子、漏电流Ir和绝缘电阻Ri等参数。
扩展材料:
流程图设计难点在于清晰理解业务逻辑,分解流程环节,并按时间顺序排列,使用方框和箭头表示进程和判定点。注释可帮助理解流程中的各个步骤。
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