半导体行业的技术领域极其广泛,而半导体工艺工程师的角色则多种多样,尤其在硅基芯片的生产流程中,他们的重要性不言而喻。在FAB(晶圆制造厂)中,这些工程师根据他们的专业技能,主要分为几个关键环节:Litho(光刻)、ETCH(蚀刻)、WET(湿法/干法蚀刻)、TF(PVD/CVD薄膜沉积)、DF(扩散)、IMP(注入)、CMP(化学机械平整)。虽然公司间的部门划分可能有所差异,但这些工艺工程师的核心工作往往集中在FEOL(前端)MEOL(中端)和BEOL(后端)这三个制程环路中,有时还包括封装阶段,直至wafer切割为一个个芯片。让我们深入探讨FAB晶圆制造过程中的工艺工程师角色及其未来发展前景。(附图:wafer process flow,来源网络,版权保留)
对于工艺工程师的前景,其重要性和挑战性备受瞩目。有人可能会认为Litho(光刻)> ETCH(蚀刻)> DF/TF/IMP(扩散/薄膜沉积/注入)> WET(湿法蚀刻)> CMP(平整)的排序更能体现工艺难度。然而,这只是个人见解,实际中每个工艺都有其独特性且同等重要。在选择职业路径时,若追求技术深度,各个工艺都有其研究价值;而若考虑压力与工作平衡,了解这些工艺的难度和曝光程度会有所帮助。对于职业发展,工艺工程师若想转行至PIE(工艺整合工程)等领域,这种排序则有参考价值,因为难度大的制程可能带来更大的挑战和机遇。
对于即将踏入半导体行业的朋友们,这里有几点实用的建议:
若想深入了解PE(工艺工程)和PIE(工艺整合工程)的区别,可以参考知乎上的详细回答:半导体工艺工程师和工艺整合工程师的深度体验 - Q大叔的回答 - 知乎。